PLASMA WAND 是一款可以握在手中操作的等離子體發(fā)生設(shè)備，無需外部氣體，只需接通電源即可工作運(yùn)行。PlasmaWand是一款的小型設(shè)備，適用于研究所，大學(xué)的實(shí)驗(yàn)室，或者任何需要小型等離子設(shè)備的場合。

      PLASMA WAND非常適合大樣品焊接或粘合前的表面清洗和表面活化處理。Plasma Wand是一體化等離子裝置，雖然簡單卻可以提供多種功能的解決方案，同其他等離子系統(tǒng)一樣，提供一致的和可重復(fù)的結(jié)果。

 

PLASMA WAND噴嘴包括：

1.      標(biāo)準(zhǔn)噴嘴：用于清洗塑料、橡膠和絕緣材料。

2.      近距離噴嘴：用于清洗金屬和導(dǎo)電材料

3.      多組分氣體噴嘴：使用氬氣或氦氣作為輸入氣體。

 

       PE公司成立于1980年，致力于提供電子行業(yè)用的等離子設(shè)備及相關(guān)服務(wù)。通過幾十年的發(fā)展，公司發(fā)展成為提供等離子設(shè)備方面的，可為客戶提供的產(chǎn)品和解決方案，先后眾多企業(yè)提供等離子處理設(shè)備：美國宇航局NASA, 美國波音Boeing，的電子保安系統(tǒng)產(chǎn)品制造商美國霍尼韋爾Honeywell，美國摩托羅拉Moto, 德國拜耳Bayer，世界飛機(jī)的企業(yè)美國洛克希德馬丁Lockheed-Martin等等。

   

      Plasma Etch擁有多項(xiàng)發(fā)明，在開發(fā)和制造等離子設(shè)備方面有許多突破性創(chuàng)新，公司擁有等離子體技術(shù)和制造技術(shù)領(lǐng)域里的技術(shù)。這些技術(shù)的產(chǎn)品線是公司獨(dú)有的，生產(chǎn)的等離子設(shè)備是業(yè)界的集清洗速度、完整均勻性、安全可靠性為一體的等離子處理設(shè)備。

 

標(biāo)   準(zhǔn)   配   置
重量	6盎司/170克
發(fā)生器	30w集成電源
氣體輸入	空氣/氬氣/氦氣
等離子體溫度	< 50℃
工作距離	5~10mm
處理寬度	5~20mm